中禹聯重檢測技術中心隸屬于上海禹重實業有限公司，作為面向21世紀專業的材料分析服務機構，為各行業及終端用戶提供高價值專業分析和測試咨詢服務，以及第三方的產品驗證。在冶金、建筑、礦山、地質、環境、機械、化工、電子電氣、石油、生物、制藥、醫療、紡織、食品和農業等眾多領域，我們與瑞士通標（SGS）、美國EAG、上海材料研究所測試中心和鋼研檢測中心等權威檢測單位開展廣泛而持久的合作關系。

UZonglab是您在新產品新材料開發、制程監控、品質控制、失效分析中不可缺少的合作伙伴。禹重科技的材料分析專家具有廣泛的專業知識，讓客戶能夠充分理解現有分析技術的范圍，以及性能極限。您完全可以相信我們的技術并幫助您改善產品的性能、提升成品良率、縮短研發時間、降低生產成本、解決問題達到預期的效果。

污染物
出現出乎意外和無法追溯的污染物，會對制程造成重大的影響，因此關鍵是要對其了解與控制?；谶@個理由，大部分的材料特性分析工作都專注于搜索污染物，搜索污染物的來源，并且測量去除/清除污染物的效力。
依據污染物的性質和分析目的，那種技術最為合適?

預計污染物是有機物還是無機物？
預計是存在大量污染物或者只有一小部分？
預計污染物是廣泛分布、局部化或者是微粒結構？
預計是在表面、在特定層、在界面或者是在基材？
痕量程度重要嗎？或者它的存在要在一定程度以上才重要呢？
技術選擇
根據不同類型的污染物，以下列出的都是潛在的重要技術。在某些情況下，需要將幾種技術結合起來使用，尤其是當我們對污染物知之甚少，或者如果它是多種成分的混合物。

微粒
掃描式電子顯微鏡（SEM）
能量散射X-射線光譜（EDS）（%, > 0.5μm）
Auger電子光譜（AES）（%, > 200?）
傅立葉變換紅外光譜（FTIR）（>15μm，有機）
飛行式二次離子質譜（TOF-SIMS）
殘留物
Auger電子光譜（AES）（%，>200?）
FTIR（%，小面積）
X-射線光電子光譜（XPS）
飛行式二次離子質譜（TOF-SIMS）
污點，瑕疵
o XPS（at%，化學）
o Auger（%，小面積）
o TOF-SIMS（ppm，有機）
薄霧
掃描式電子光譜（SEM）（成像）
原子力顯微鏡（AFM）（成像）
TOF-SIMS
XPS
層
SEM-EDS（%，>0.5μm）
XPS（%，僅適用元素分析）
Auger（%，小面積）
SIMS（ppm, >10μm）
塊材
XRF（ppm, >3μm）
ICP-OES
ICP-MS
GDMS

清潔度
根據要分析的表面與材料特點，使用不同的測量方法去評估表面清潔度。另外，還可能會涉及到對使用不同的處理方式，或是暴露在不同環境的樣品比較。使用這種方法通?？梢酝伙@出檢測樣品和控制樣品或標準品之間的區別。例如，非常靈敏的測量方法可以發現到因為沒有進行適當地沖洗而殘留的清潔化學品，靈敏度較低的測定方法則可能會測不到殘留物。

評估清潔度一般需要對于污染物的可能來源有一定程度上的理解：

是否有感興趣的元素或者分子污染物？(嫌疑犯?)
材料存在或不存在的確認？
在意的元素是否必須要低于特定濃度？
測定非常干凈的表面可能會要求偵測極限為ppm范圍的分析技術，例如全反射X-射線熒光分析（TXRF），只探測元素成分，或者飛行式二次離子質譜（TOF-SIMS），針對元素和分子污染物。通過表面的許多微粒來測定清潔度，對于表面成像和微粒計算來說，掃描式電子顯微鏡（SEM）是個不錯的選擇。
主要分析技術

掃描式電子顯微鏡（SEM）
飛行式二次離子質譜（TOF-SIMS)
全反射X-射線熒光光譜（TXRF）
X-射線光電子光譜（XPS）和化學分析電子光譜(ESCA)
其他分析技術

Auger電子光譜 (Auger)
傅立葉變換紅外光譜 (FTIR)
氣相色譜質譜(GC-MS)